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冗長設計
3．1．6 冗長設計
欠陥による歩留まりの低￣卜を防ぐための予備手段⊂）画素構成とプロセ
スの二つの光夫設計が行われる。前者はTFTを複数にしたり画素を「つ
に分割して−−・方さえ生きていれば不良とはみなさない。しかし九良な
T円「や配線がかえって欠陥を増やしたり、問「l率を低￣Fさせるため、複
雑になるとかえって朴吾となる。
−−一一方、プロセス上の対策としては配線や絶縁膜を2層化する方式がと
られる。例えば、ゲート絶縁掛二は均一性の良い陽棒憶化膜とsi窒化膜
を車ねることでパーティクルによる耐庄の低卜を】叫止しており、歩留ま
りの改善策として−一一般化している。
