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画素構成
画素構成
画真の構成要素はTFT基板側はゲートおよびデータ配線、それらに接
続されたTFT、ITO画素電極、および補助容量である。また対向基板側
にはブラック・マトリクス、カラー・フィルタ層、および共通電極から
成る。ブラック・マトリクスは画素電極のすき閏とTFTのエリアをカバ
ーしコントラストを上げ、またTFTの光によるリークの発生を阻止する。
開口率は画素の総面積に村し光が透過できる面積の比を示す。これら画
素を並べてアレイ状に配列する。
画素設計に当たっては、電荷保持動作がきちんとできるようTFTサイ
ズと容量値を設定することが第一条件であるが、粕反する課題として輝
度に関係する開口率の向上がある。
また画素設計は歩留まりにも重大な影響を与えるため、冗長設計も導入される。
