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洗浄
2．2．10 洗浄
TFT液晶の製造歩留まりを低下させる基板に付着したパーティクルや
汚染源を除去する洗浄プロセスは、工程の前後に繰り返しふんだんに利
用され、一説ではTFT全工程の40％を占めるとまで言われている。
洗浄方法は、酸や有機溶液による化学的洗浄、機械的なブラシ・スク
ラブ洗浄、超音浪を利用したメガソニック、高圧純水ジェット洗浄、な
ど目的に合わせて使い分けられている。例えば溶液洗浄は汚染源の除去
に有効で、ガラス基板の表面洗浄、レジスト剥離後洗浄などに応用され
る。ブラシ・スクラブ洗浄は比較的大きく強固なパーティクルを除去で
き、高圧ジェットは大きなパーティクルの除去に有効である。実際の洗
洗浄装置は、これらの中から複数の方式をインライン化して構成する。
